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Introduzione al sistema BMF nanoArch® P150
Il nanoArch P150 è un sistema di dispositivi che consente la stampa 3D ad alta precisione su microscala utilizzando la tecnologia PμSL (Projection Micro Stereolithography). Utilizzando un sistema di proiezione di fotografia ultravioletta di alta precisione, la tecnologia richiederà la proiezione di modelli stampati sulla superficie del serbatoio di resina, la rigidità della resina sulla superficie del liquido e la rapida formatura microstereo, la lavorazione diretta di modelli e campioni complessi tridimensionali dal modello digitale per completare la produzione del campione. Questa tecnologia ha i vantaggi di alta efficienza di stampaggio, alta precisione di stampa e è considerata una delle tecnologie di micronanolavorazione più promettenti attualmente.
Sistema di stampa 3D di livello scientifico
Performance del sistema nanoArch® P150
Fonte di luce
UV-LED(405nm) |
Materiale di stampa
Resina sensibile alla luce |
Precisione ottica
25μm |
Precisione di stampa XY
50~200μm |
Spessore dello strato di stampa
10~50μm |
Dimensioni del campione di stampa
48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
Formato di file di stampa
STL (singolo materiale) |
Dimensioni del sistema
530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) |
Peso
300kg |
Requisiti elettrici
200~240V AC,50/60HZ,2KW |
Altri requisiti
Modulo di accelerazione e modulo di rivestimento opzionali per alcuni processi |
Potenza dell'apparecchiatura
2000W |
Materiale di stampa
Tipo universale
Resine acriliche fotosensibili, come HDDA, PEGDA, ecc.
Personalizzazione
Resine dure ad alta resistenza, resine dopagate con nanoparticelle, resine biomediche, ecc.

Caratteristiche del sistema






Casi di applicazione


