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Specchio laser
L'obiettivo del riflettore laser femtosecondo è quello di realizzare un'ampia gamma di lunghezze d'onda di lavoro in un riflettore laser femtosecondo
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L'obiettivo di progettazione degli specchi laser a femtosesecondo è quello di raggiungere una vasta gamma di lunghezze d'onda operative e caratteristiche di variazione lineare di fase con frequenza (group delay dispersion (GDD)) negli specchi laser a femtosesecondo. Un rivestimento è un mezzo a strato singolo senza regione di spostamento di fase alla lunghezza d'onda operativa. Gli specchi con alta riflettività hanno spesso maggiore riflettività e per lo stesso rivestimento dielettrico, l'area di lavoro e la distorsione dell'impulso della s-polarizzazione sono più piccoli di quelli della p-polarizzazione.

I nostri specchi standard sono adatti per i laser in titanio base: zaffiro e Yb: KGW o KYW, nonché per le loro armoniche seconda, terza o quarta.


substrato

materiale

UV Grado di silice fuso o vetro BK7

S1 Flatness superficiale

633A nm, è λ/ 10

S1 QUALITÀ DELLA SUPERFICIE

20 10 scratch &dig(MIL-PRF-13830B)

S2 QUALITÀ DELLA SUPERFICIE

lucidatura

tolleranza del diametro

+0.00mm-0.12 mm

Tolleranza

±0.25mm

Wedge

< 3 min

cadutacorno

0.3mm a45°typical


rivestimento


lavorazione

Sputtering dielettrico o ionico multistrato del fascio di elettroni

Adesione e durata

conforme aMIL-C-675A.Insolubile in solventi da laboratorio

Apertura ottica

Superare il diametro centraledi 85%

rivestimento

Dielettrico duro con alta riflettività R>995

angolo di incidente

0or45±3°

Appositamente progettati per polarizzazione media

R=(Rs+Rp)/2

Soglia di danno laser

>100mJ/cm2, 50fsecpulse, 50Hz,

800nmtypical

Planarità superficiale del rivestimento

633 sotto apertura trasparentenλ a m/ 10



Riflettore ultraveloce GDD basso

Substrato: BK7 grado A

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SPECCHI ULTRAFASTI BASSI GDD

Substrato: silice fuso di grado UV

Consigliato per applicazioni nella banda UV dei laser ad alta energia

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